| Idioma original | Inglés |
|---|---|
| Páginas (desde-hasta) | 1127-1131 |
| Publicación | Microelectronics Reliability |
| Volumen | 38 |
| Estado | Publicada - 1 jun 1998 |
Two-Step Stress Method for the Dynamic Testing of Very Thin (8nm) SiO2 Films
R. Rodríguez, E. Miranda, M. Nafría, J. Suñé, X. Aymerich
Producción científica: Contribución a una revista › Artículo › Investigación
1
Cita
(Scopus)