On the determination of the Si SiO2 barrier height from the Fowler Nordheim plot

P. Olivo, J. Suñé, B. Riccò

Producción científica: Contribución a una revista › Artículo › Investigación

Idioma original	Inglés
Páginas (desde-hasta)	620-622
Publicación	IEEE Electron Device Letters
Volumen	12
Estado	Publicada - 1 ene 1991

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