Huella
Profundice en los temas de investigación de 'Impact of the W etching process on the resistive switching properties of TiN/Ti/HfO2/W memristors'. En conjunto forman una huella única.- Clasificar por
- Ponderación
- Alfabéticamente
Impact of the W etching process on the resistive switching properties of TiN/Ti/HfO2/W memristors
M. Saludes-Tapia*, F. Campabadal, E. Miranda, M. B. González
*Autor correspondiente de este trabajo
Producción científica: Contribución a una revista › Artículo › Investigación › revisión exhaustiva
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Cita
(Scopus)