Fabrication, characterization and modeling of TiN/Ti/HfO2/W memristors: Programming based on an external capacitor discharge

F. Jimenez-Molinos, H. Garcia, M. B. Gonzalez, S. Duenas, H. Castan, E. Miranda, F. Campabadal, J. B. Roldan

Producción científica: Contribución a una revista › Artículo › Investigación › revisión exhaustiva

Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Fabrication, characterization and modeling of TiN/Ti/HfO2/W memristors: Programming based on an external capacitor discharge'. En conjunto forman una huella única.

Keyphrases

Physics