Fabrication, characterization and modeling of TiN/Ti/HfO2/W memristors: Programming based on an external capacitor discharge

F. Jimenez-Molinos, H. Garcia, M. B. Gonzalez, S. Duenas, H. Castan, E. Miranda, F. Campabadal, J. B. Roldan

Producción científica: Contribución a una revistaArtículoInvestigaciónrevisión exhaustiva

Resumen

Hafnium oxide based memristors were fabricated and multilevel programming driven by a capacitor discharge current through the device was performed. Furthermore, the dynamic memdiode model was used for modeling and analyzing the experimental data.

Idioma originalInglés
Páginas (desde-hasta)74-77
Número de páginas4
PublicaciónProceedings of the 2021 13th Spanish Conference on Electron Devices, CDE 2021
DOI
EstadoPublicada - 9 jun 2021

Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Fabrication, characterization and modeling of TiN/Ti/HfO2/W memristors: Programming based on an external capacitor discharge'. En conjunto forman una huella única.

Citar esto