Engineering of the chemical reactivity of the Ti/HfO<inf>2</inf> interface for RRAM: Experiment and theory.

Pauline Calka, Malgorzata Sowinska, Thomas Bertaud, Damian Walczyk, Jarek Dabrowski, Peter Zaumseil, Christian Walczyk, Andrei Gloskovskii, Xavier Cartoixà, Jordi Suñé, Thomas Schroeder

Producción científica: Contribución a una revistaArtículoInvestigaciónrevisión exhaustiva

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Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Engineering of the chemical reactivity of the Ti/HfO<inf>2</inf> interface for RRAM: Experiment and theory.'. En conjunto forman una huella única.

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