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Analytic model for the post-breakdown conductance of sub-5-nm SiO<inf>2</inf> gate oxides

Producción científica: Contribución a una revistaArtículoInvestigaciónrevisión exhaustiva

Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Analytic model for the post-breakdown conductance of sub-5-nm SiO<inf>2</inf> gate oxides'. En conjunto forman una huella única.
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