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Technology and characterization of silicon carbide films for high temperature applications TECSICA
Mora Aznar, Maria Teresa
(Principal Investigator)
Pascual Gainza, Jordi
(Investigador/a)
Rodriguez Viejo, Javier
(Investigador/a)
Departamento de Física
Información general
Huella digital
Huella digital
Explore los temas de investigación que se abordan en este proyecto. Estas etiquetas se generan con base en las adjudicaciones/concesiones subyacentes. Juntos, forma una huella digital única.
Clasificar por
Ponderación
Alfabéticamente
Keyphrases
High Temperature Applications
100%
Silicon Carbide Film
100%
Polysilicon
50%
Physical Effects
50%
Film Morphology
50%
Low Pressure Chemical Vapor Deposition (LPCVD)
50%
Increased Reliability
50%
XRD Spectroscopy
50%
Monocrystalline Silicon
50%
Ion Implantation
50%
Growth Mechanism
50%
Amorphous Silicon
50%
Performance Improvement
50%
Raman Spectroscopy
50%
Optical Effects
50%
Material Science
Silicon Carbide
100%
Film
100%
Low Pressure Chemical Vapor Deposition
33%
Raman Spectroscopy
33%
X-Ray Diffraction
33%
Molecular Beam Epitaxy
33%
Ion Implantation
33%
Chemical Engineering
Silicon Carbide
100%
Film
100%
Molecular Beam Epitaxy
33%
Low Pressure Chemical Vapor Deposition
33%
Polysilicon
33%
Monocrystalline Silicon
33%