Detalles del proyecto
Descripción
El objetivo básico es la obtención de capas muy finas de carburo de silicio amorfas, policristalinas y monocristalinas por LPCVD y por MBE. Las impurezas resultantes directamente del proceso de obtención o por implantación iónica aportan una información fundamental sobre las propiedades físicas y ópticas de aquellas, aplicables al diseño y a la actuación de sistemas integrados. La estructura, la estequiometría y los mecanismos de crecimiento se obtendrán del estudio morfológico realizado por TEM, XRD y espectroscopia Raman. Los resultados del proyecto serán básicos para el diseño de sistemas integrados que incorporen sensores con mejores prestaciones.
| Estado | Finalizado |
|---|---|
| Fecha de inicio/Fecha fin | 1/02/93 → 30/01/96 |
Socios colaboradores
- Universitat Autònoma de Barcelona (UAB)
- Technische Universität Berlin (Technical University of Berlin) (TU Berlin) (Coordinador) (principal)
- Foundation for Research and Technology - Hellas (FORTH) (Socio del proyecto)
- Aristotle University of Thessaloniki (Aristotelio Panepistimio Thessalonikis) (Socio del proyecto)
- Université de Montpellier II (Socio del proyecto)
Financiación
- Comisión Europea (CE): 899.729,00 €
Huella digital
Explore los temas de investigación que se abordan en este proyecto. Estas etiquetas se generan con base en las adjudicaciones/concesiones subyacentes. Juntos, forma una huella digital única.