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Òxids de porta irradiats en tecnologies CMOS sub-0,1\mum: caracterització a escala nanomètrica i impacte en les prestacions de dispositius i circuits

Detalles del proyecto

Descripción

The main objective of the proposed project, i.e. the investigation of the ionising radiation effects on MOS devices, can be divided in two seccondary objectives: 1. Impact of radiation on microelectronic devices/circuits: characterization and modelling. 2. Nanometer scale characterization of the radiation effects on the gate oxide reliability of MOS structures
EstadoFinalizado
Fecha de inicio/Fecha fin1/01/0531/03/07

Socios colaboradores

  • University of Padua (Coordinador) (principal)

Financiación

  • Ministerio de Educación y Ciencia (MEC): 10.820,00 €

Huella digital

Explore los temas de investigación que se abordan en este proyecto. Estas etiquetas se generan con base en las adjudicaciones/concesiones subyacentes. Juntos, forma una huella digital única.