Crecimiento y caracterización de capas delgadas de SiO2. Potencial del procesado térmico rápido

    Tesi d’estudis: Tesi doctoral

    Data del Ajut23 de set. 1992
    Idioma originalNo s'ha definit/desconegut
    SupervisorFrancesca Campabadal Segura (Director/a)

    Com citar-ho

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