Using AFM related techniques for the nanoscale electrical characterization of irradiated ultra-thin gate oxides

M. Porti, S. Gerardin, M. Nafría, X. Aymerich, A. Cester, A. Paccagnella

Producció científica: Contribució a una revistaArticleRecercaAvaluat per experts

20 Cites (Scopus)
Idioma originalEnglish
Pàgines (de-a)1891-1897
RevistaIEEE Transactions on Nuclear Science
Volum54
DOIs
Estat de la publicacióPublicada - 1 de gen. 2007

Com citar-ho