Two-Step Stress Method for the Dynamic Testing of Very Thin (8nm) SiO2 Films

Producció científica: Contribució a revistaArticleRecerca

1 Citació (Scopus)
Idioma originalAnglès
Pàgines (de-a)1127-1131
RevistaMicroelectronics Reliability
Volum38
Estat de la publicacióPublicada - 1 de juny 1998

Com citar-ho