Idioma original | Anglès |
---|---|
Pàgines (de-a) | 1127-1131 |
Revista | Microelectronics Reliability |
Volum | 38 |
Estat de la publicació | Publicada - 1 de juny 1998 |
Two-Step Stress Method for the Dynamic Testing of Very Thin (8nm) SiO2 Films
R. Rodríguez, E. Miranda, M. Nafría, J. Suñé, X. Aymerich
Producció científica: Contribució a revista › Article › Recerca
1
Citació
(Scopus)