Stochastic modeling of progressive breakdown in ultrathin SiO2 films

E. Miranda*, A. Cester, A. Paccagnella

*Autor corresponent d’aquest treball

Producció científica: Contribució a revistaArticleRecercaAvaluat per experts

5 Cites (Scopus)

Resum

Progressive breakdown dynamics of ultrathin SiO2 films is described by the stochastic logistic differential equation. For completeness, particular breakdown cases corresponding to reverting processes are also included.

Idioma originalAnglès
Pàgines (de-a)5014-5016
Nombre de pàgines3
RevistaApplied physics letters
Volum83
Número24
DOIs
Estat de la publicacióPublicada - 15 de des. 2003

Fingerprint

Navegar pels temes de recerca de 'Stochastic modeling of progressive breakdown in ultrathin SiO2 films'. Junts formen un fingerprint únic.

Com citar-ho