Soft breakdown in ultrathin SiO2 layers: the conduction problem from a new point of view.

Producció científica: Contribució a revistaArticleRecerca

18 Cites (Scopus)
Idioma originalAnglès
Pàgines (de-a)2223-2226
RevistaJapanese Journal of Applied Physics
Volum38
Estat de la publicacióPublicada - 1 de gen. 1999

Com citar-ho