Idioma original | Anglès |
---|---|
Pàgines (de-a) | 2223-2226 |
Revista | Japanese Journal of Applied Physics |
Volum | 38 |
Estat de la publicació | Publicada - 1 de gen. 1999 |
Soft breakdown in ultrathin SiO2 layers: the conduction problem from a new point of view.
E. Miranda, J. Suñé, R. Rodríguez, M. Nafria, F. Martín, X. Aymerich
Producció científica: Contribució a revista › Article › Recerca
18
Cites
(Scopus)