| Idioma original | Anglès |
|---|---|
| Pàgines (de-a) | 315-323 |
| Revista | International journal of numerical modelling (Print) |
| Volum | 23 |
| Número | 4-5 |
| DOIs | |
| Estat de la publicació | Publicada - 1 de juny 2010 |
Simulation of the hot-carrier degradation in short channel transistors with high-K dielectric
E. Amat, T. Kauerauf, R. Degraeve, R. Rodríguez, M. Nafría, X. Aymerich, G. Groeseneken
Producció científica: Contribució a revista › Article › Recerca
2
Cites
(Scopus)