| Títol traduït de la contribució | Si-SiO2 interfacial atomic scale roughness caused by inhomogeneous oxidation |
|---|---|
| Idioma original | Múltiples idiomes |
| Pàgines (de-a) | 83-96 |
| Revista | Physica status solidi. A, Applied research |
| Volum | 113 |
| Estat de la publicació | Publicada - 1 de gen. 1989 |
Si-SiO2 interfacial atomic scale roughness caused by inhomogeneous oxidation
E. Farrés, J. Suñé, I. Placencia, N. Barniol, X. Aymerich
Producció científica: Contribució a revista › Article › Recerca
1
Citació
(Scopus)