Si-SiO2 interfacial atomic scale roughness caused by inhomogeneous oxidation

E. Farrés, J. Suñé, I. Placencia, N. Barniol, X. Aymerich

Producció científica: Contribució a una revistaArticleRecerca

1 Citació (Scopus)
Títol traduït de la contribucióSi-SiO2 interfacial atomic scale roughness caused by inhomogeneous oxidation
Idioma originalMultiple languages
Pàgines (de-a)83-96
RevistaPhysica status solidi. A, Applied research
Volum113
Estat de la publicacióPublicada - 1 de gen. 1989

Com citar-ho