Semi-empirical modelling of the post-breakdown current-voltage characteristics of ultra-thin oxides in MOS structures

E. Miranda, B. Brandala

Producció científica: Contribució a una revistaArticleRecerca

1 Citació (Scopus)
Idioma originalEnglish
Pàgines (de-a)175-178
RevistaMicroelectronics and Reliability
Volum45
Estat de la publicacióPublicada - 1 de gen. 2004

Com citar-ho