Post-breakdown electrical characterization of ultrathin SiO2 films with conductive atomic force microscopy,

M. Porti, M. Nafría, X. Aymerich, A. Olbrich, B. Ebersberger

    Producció científica: Contribució a revistaArticleRecercaAvaluat per experts

    2 Cites (Scopus)
    Idioma originalAnglès
    Pàgines (de-a)388-391
    RevistaNanotechnology
    Volum13
    Estat de la publicacióPublicada - 1 de gen. 2002

    Com citar-ho