On the SiO\sub x\nosub transition layer in abrupt Si-SiO\sub 2\nosub chemical interface in MOS structures

J. Suñé, I. Placencia, N. Barniol, E. Farrés, X. Aymerich

Producció científica: Contribució a una revistaArticleRecerca

Idioma originalEnglish
Pàgines (de-a)463-472
RevistaSurface Science
Volum0
Número208
Estat de la publicacióPublicada - 1 de gen. 1989

Com citar-ho