| Idioma original | Anglès |
|---|---|
| Pàgines (de-a) | 463-472 |
| Revista | Surface Science |
| Volum | 0 |
| Número | 208 |
| Estat de la publicació | Publicada - 1 de gen. 1989 |
On the SiO\sub x\nosub Transition Layer in abrupt Si-SiO\sub 2 \nosub Chemical Interface in MOS Structures
J. Suñé, I. Placencia, N. Barniol, X. and Aymerich
Producció científica: Contribució a revista › Article › Recerca
13
Cites
(Scopus)