On the SiO\sub x\nosub Transition Layer in abrupt Si-SiO\sub 2 \nosub Chemical Interface in MOS Structures

Producció científica: Contribució a una revistaArticleRecerca

13 Cites (Scopus)
Idioma originalEnglish
Pàgines (de-a)463-472
RevistaSurface Science
Volum0
Número208
Estat de la publicacióPublicada - 1 de gen. 1989

Com citar-ho