Idioma original | Anglès |
---|---|
Pàgines (de-a) | 771-774 |
Revista | Vacuum |
Volum | 39 |
Estat de la publicació | Publicada - 1 de gen. 1989 |
On the oxide interface microroughness in MOS decives
I. Placencia, J. Suñé, E. Farrés, N. Barniol, X. Aymerich
Producció científica: Contribució a revista › Article › Recerca