On the oxide interface microroughness in MOS decives

I. Placencia, J. Suñé, E. Farrés, N. Barniol, X. Aymerich

Producció científica: Contribució a revistaArticleRecerca

Idioma originalAnglès
Pàgines (de-a)771-774
RevistaVacuum
Volum39
Estat de la publicacióPublicada - 1 de gen. 1989

Com citar-ho