Methodology for the Simulation of the Variability of MOSFETs with Polycrystalline High-k Dielectrics Using CAFM Input Data

A. Ruiz*, C. Couso, N. Seoane, M. Porti, A. J. Garcia-Loureiro, M. Nafria

*Autor corresponent d’aquest treball

Producció científica: Contribució a una revistaArticleRecercaAvaluat per experts

1 Citació (Scopus)
2 Descàrregues (Pure)

Fingerprint

Navegar pels temes de recerca de 'Methodology for the Simulation of the Variability of MOSFETs with Polycrystalline High-k Dielectrics Using CAFM Input Data'. Junts formen un fingerprint únic.

Engineering

Chemistry

Material Science