Impact of the W etching process on the resistive switching properties of TiN/Ti/HfO2/W memristors

M. Saludes-Tapia*, F. Campabadal, E. Miranda, M. B. González

*Autor corresponent d’aquest treball

Producció científica: Contribució a una revistaArticleRecercaAvaluat per experts

1 Citació (Scopus)

Fingerprint

Navegar pels temes de recerca de 'Impact of the W etching process on the resistive switching properties of TiN/Ti/HfO2/W memristors'. Junts formen un fingerprint únic.

Keyphrases

Material Science