Ellipsometric study of crystallization of amorphous Ge thin films embedded in SiO2

M.I. Alonso, M. Garriga, A. Bernardi, A.R. Goñi, A.F. Lopeandia, G. Garcia, J. Rodríguez-Viejo, J.L. Lábár

Sortida de recercaRecerca

11 Cites (Scopus)
Idioma originalEnglish
Pàgines (de-a)4277-4281
RevistaThin Solid Films
Volum516
Número d'incidència12
DOIs
Estat de la publicacióPublicada - 1 de gen. 2008

Citeu això