| Idioma original | Anglès |
|---|---|
| Pàgines (de-a) | 79-84 |
| Revista | Applied Physics |
| Volum | 17 |
| Número | 1 |
| DOIs | |
| Estat de la publicació | Publicada - 1 de gen. 1978 |
A new model of the thermal growth of a silicon dioxide layer
A. Lora Tamayo, E. Domínguez, E. Lora Tamayo, J. Llabrés
Producció científica: Contribució a revista › Article › Recerca
10
Cites
(Scopus)