A new model of the thermal growth of a silicon dioxide layer

A. Lora Tamayo, E. Domínguez, E. Lora Tamayo, J. Llabrés

Producció científica: Contribució a revistaArticleRecerca

10 Cites (Scopus)
Idioma originalAnglès
Pàgines (de-a)79-84
RevistaApplied Physics
Volum17
Número1
DOIs
Estat de la publicacióPublicada - 1 de gen. 1978

Com citar-ho