A fast optical scanning deflectometer for measuring the topography of large silicon wafers

S. Krey, W.D. Van Amstel, J. Campos, A. Moreno, E.J. Lous

Producció científica: Contribució a revistaArticleRecerca

15 Cites (Scopus)
Idioma originalAnglès
Pàgines (de-a)110-120
RevistaProc. SPIE
Volum5523
Número12
DOIs
Estat de la publicacióPublicada - 1 de gen. 2004

Com citar-ho