Technology and characterization of silicon carbide films for high temperature applications TECSICA

Detalls del projecte

Descripció

L'objectiu primordial és obtenir làmines molt primes de carbur de silici amorfes, policristal·lines i monocristal·lines per LPCVD i per MBE, dopades o no durant l'obtenció, o per implantació iònica. S'investigaran les propietats físiques i òptiques, que poden ser d'utilitat per al disseny i l'actuació de sistemes integrats. S'analitzarà la morfologia d'aquestes pel·lícules per TEM, XRD i espectroscòpia Raman per conèixer-ne l'estructura, l'estequiometria i els mecanismes decreixement cristal·lí. Els resultats que se n'obtindran seran bàsics per al disseny de sistemes integrats que incorporaran sensors de millors prestacions.
EstatusAcabat
Data efectiva d'inici i finalització1/02/9330/01/96

Socis col·laboradors

  • Technische Universität Berlin (Technical University of Berlin) (TU Berlin) (Coordinador) (guia)
  • Foundation for Research and Technology - Hellas (FORTH) (Soci del projecte)
  • Aristotle University of Thessaloniki (Soci del projecte)
  • Université de Montpellier II (Soci del projecte)

Finançament

  • Comissió Europea (CE): 899.729,00 €

Fingerprint

Explora els temes de recerca tractats en aquest projecte. Les etiquetes es generen en funció dels ajuts rebuts. Juntes formen un fingerprint únic.