Nanolitografia de sonda local per a la fabricació de dispositius electrònics de dimensions nanomètriques

En el present projecte, es desenvoluparan tècniques de nanolitografia basades en microscopia de sonda local (microscopia d'efecte túnel, STM, i microscopia de forces atòmiques, AFM) per a la fabricació de dispositius electrònics amb dimensions laterals nanomètriques. En primer lloc, s'optimitzarà la tècnica d'oxidació local de superfícies de silici i metalls mitjançant AFM per a la creació d'estructures d'òxid amb dimensions laterals inferiors a 50 nm. Aquesta tècnica s'utilitzarà per a oxidar localment capes de silici amorf dipositades sobre distints substrats. Les regions de silici amorf oxidat s'utilitzaran com a màscara front a distints tipus d'atac, per a definir estructures nanomètriques sobre el substrat. Una vegada optimizat el sistema nanolitogràfic, s'abordarà la fabricació de diversos tipus de dispositius i estructures nanomètriques basades en materials metàl·lics, i es realitzarà llur caracterització elèctrica per a posar de manifest propietats de conducció quàntica. Així mateix, es desenvoluparan nanoestructures basades en sistemes metall/SiO\sub 2\nosub /Si, per a avaluar la utilització d'aquest sistema en nanoelectrònica.