Òxids de porta irradiats en tecnologies CMOS sub-0,1\mum: caracterització a escala nanomètrica i impacte en les prestacions de dispositius i circuits

Detalls del projecte

Descripció

The main objective of the proposed project, i.e. the investigation of the ionising radiation effects on MOS devices, can be divided in two seccondary objectives: 1. Impact of radiation on microelectronic devices/circuits: characterization and modelling. 2. Nanometer scale characterization of the radiation effects on the gate oxide reliability of MOS structures
EstatusAcabat
Data efectiva d'inici i finalització1/01/0531/03/07

Socis col·laboradors

  • University of Padua (Coordinador) (guia)

Finançament

  • Ministerio de Educación y Ciencia (MEC): 10.820,00 €

Fingerprint

Explora els temes de recerca tractats en aquest projecte. Les etiquetes es generen en funció dels ajuts rebuts. Juntes formen un fingerprint únic.